真空爐石墨配件的使用環(huán)境： 氧氣含量：在高溫真空環(huán)境下，石墨資料容易遭到氧氣的進犯。尤其是在爐門開關過程中，爐內氧氣含量或許會時間短升高，增加了石墨配件氧化的危險。如果真空爐的密封功能欠安，外部空氣或許滲入爐內，進一步加重真空爐石墨配件的氧化。 污染物：真空爐內部或許存在的殘留水分、氣體或其他污染物也或許促進氧化反響的產生。 溫度與濕度：在高溫、高濕環(huán)境下，石墨制品的失重率會明顯增加，抗氧化功能也會相應下降。
